Resist modeling method for angled gratings

WO2023177869 Art A1 21. September 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023177869
Aktenzeichen: EP23771452
Anmeldetag: 17. März 2023
Veröffentlichung: 21. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/00G02B27/00G02B5/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von