Substrate processing apparatus, substrate processing method, method for manufacturing semiconductor apparatus, and program

WO2023181289 Art A1 28. September 2023

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023181289
Aktenzeichen
EP22933429
Anmeldetag
24. März 2022
Veröffentlichung
28. September 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/318
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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