Exhaust structure and exhaust method for flow rate control device, and gas supply system and gas supply method comprising same

WO2023182105 Art A1 28. September 2023

Anmelder: FUJIKIN INCORPORATED, TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023182105
Aktenzeichen: EP23774701
Anmeldetag: 15. März 2023
Veröffentlichung: 28. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G05D7/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIKIN INCORPORATED
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von