Method and apparatus for producing semiconductor substrate

WO2023182194 Art A1 28. September 2023

Anmelder: KYOCERA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023182194
Aktenzeichen: EP23774789
Anmeldetag: 17. März 2023
Veröffentlichung: 28. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C30B25/18C30B29/38H01L21/20H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KYOCERA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyocera

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Kyoto. Kyocera fertigt Keramikbauteile, Halbleiterkomponenten, Solarmodule, Druck- und Kopiersysteme sowie Elektronikprodukte für Industrie und Endverbraucher.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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