Composition for forming resist-lower-layer film including fluorene skeleton

WO2023182408 Art A1 28. September 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023182408
Aktenzeichen: EP23775002
Anmeldetag: 23. März 2023
Veröffentlichung: 28. September 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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