Nondestructive in-situ high-complexity structure testing device and method based on raman analysis
WO2023185950
Art A1
5. Oktober 2023
Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023185950
- Aktenzeichen
- EP23778315
- Anmeldetag
- 29. März 2023
- Veröffentlichung
- 5. Oktober 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/65
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TSINGHUA UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
3.287 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.