Semiconductor film and method for producing semiconductor film

WO2023189014 Art A1 5. Oktober 2023

Anmelder: IDEMITSU KOSAN CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023189014
Aktenzeichen: EP23779044
Anmeldetag: 21. Februar 2023
Veröffentlichung: 5. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/363C04B35/01C23C14/08H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

3.465 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von