Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and photodegradable base

WO2023189502 Art A1 5. Oktober 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023189502
Aktenzeichen: EP23779522
Anmeldetag: 13. März 2023
Veröffentlichung: 5. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C09K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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