E-beam optimization for overlay measurement of buried features

WO2023194014 Art A1 12. Oktober 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023194014
Aktenzeichen: EP23709965
Anmeldetag: 6. März 2023
Veröffentlichung: 12. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G01N23/2251H01J37/28H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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