Charged-particle beam apparatus with large field-of-view and methods thereof

WO2023198397 Art A1 19. Oktober 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023198397
Aktenzeichen: EP23712838
Anmeldetag: 16. März 2023
Veröffentlichung: 19. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01J37/153H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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