Oxide semiconductor film, thin-film transistor, sputtering target, and oxide sintered body

WO2023199722 Art A1 19. Oktober 2023

Anmelder: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.), KOBELCO RESEARCH INSTITUTE, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023199722
Aktenzeichen: EP23788142
Anmeldetag: 23. März 2023
Veröffentlichung: 19. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/08C23C14/34H01L21/203H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
KOBELCO RESEARCH INSTITUTE, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kobe Steel

Japanischer Mischkonzern mit Sitz in Kobe, gegründet 1905. Tätigkeitsfelder umfassen Stahl- und Aluminiumerzeugnisse, Maschinenbau sowie Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von