Droplet discharge device, droplet discharge method, and storage medium

WO2023199749 Art A1 19. Oktober 2023

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023199749
Aktenzeichen: EP23788169
Anmeldetag: 30. März 2023
Veröffentlichung: 19. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: B05C13/02B05C5/00B05D1/26B05D3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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