Semiconductor substrate manufacturing method, composition, and compound

WO2023199851 Art A1 19. Oktober 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023199851
Aktenzeichen: EP23788270
Anmeldetag: 7. April 2023
Veröffentlichung: 19. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07C13/547C07C33/36C07C39/17C07C39/23C07C43/215C07D207/335C07D209/14C07D333/18C07F5/02C07F7/08C07F7/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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