Methods and process control for real time inert monitoring of acid copper electrodeposition solutions
WO2023200640
Art A1
19. Oktober 2023
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023200640
- Aktenzeichen
- EP23788766
- Anmeldetag
- 5. April 2023
- Veröffentlichung
- 19. Oktober 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/33G01N21/27
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
1.908 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.