Artifact correction method and apparatus based on normalizing flow
WO2023201625
Art A1
26. Oktober 2023
Anmelder: SHENZHEN INSTITUTES OF ADVANCED TECHNOLOGY CHINESE 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023201625
- Aktenzeichen
- EP22937862
- Anmeldetag
- 21. April 2022
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06T11/00G06F18/40G06V10/774
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHENZHEN INSTITUTES OF ADVANCED TECHNOLOGY CHINESE
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Shenzhen Institutes of Advanced Technology
Chinesisches Forschungsinstitut in Shenzhen unter der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Schwerpunkten in Robotik, Biomedizintechnik und neuen Materialien.
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Fachgebiete
Vertreten von
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