Manufacturing method for reflective mask blank, reflective mask blank, and focused ion beam processing apparatus

WO2023203866 Art A1 26. Oktober 2023

Anmelder: V TECHNOLOGY CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023203866
Aktenzeichen
EP23791521
Anmeldetag
22. Februar 2023
Veröffentlichung
26. Oktober 2023
Rechtsraum
WO
IPC
G03F1/24G03F1/84
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
V TECHNOLOGY CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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