Light exposure method, method for producing deposition mask, light exposure apparatus, and deposition mask

WO2023204295 Art A1 26. Oktober 2023

Anmelder: TOPPAN HOLDINGS INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023204295
Aktenzeichen: EP23791943
Anmeldetag: 21. April 2023
Veröffentlichung: 26. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOPPAN HOLDINGS INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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