Nonconformal oxide film deposition using carbon-containing inhibitor

WO2023205570 Art A1 26. Oktober 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023205570
Aktenzeichen: EP23792661
Anmeldetag: 6. April 2023
Veröffentlichung: 26. Oktober 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/40C23C16/04C23C16/44C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von