Control device and laser processing device comprising same, and method for controlling displacement of processing start point of laser emission mechanism of laser processing device
WO2023209792
Art A1
2. November 2023
Anmelder: FANUC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023209792
- Aktenzeichen
- EP22940072
- Anmeldetag
- 26. April 2022
- Veröffentlichung
- 2. November 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B23K26/00B23K26/08B23K26/082
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FANUC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fanuc
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Oshino (Präfektur Yamanashi). Weltweit führender Hersteller von Industrierobotern, numerischen Steuerungen (CNC) und Automatisierungslösungen für die Fertigungsindustrie.
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