Composition for forming thin film for energy storage device electrode

WO2023210558 Art A1 2. November 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023210558
Aktenzeichen: EP23796298
Anmeldetag: 24. April 2023
Veröffentlichung: 2. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01M4/66H01G11/28H01G11/68H01M4/13H01M4/139H01M10/052H01M10/0562

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von