Remover agent, remover agent for semiconductors, solvent for semiconductors, treatment liquid for semiconductors, and method for producing semiconductor element

WO2023210574 Art A1 2. November 2023

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023210574
Aktenzeichen
EP23796314
Anmeldetag
24. April 2023
Veröffentlichung
2. November 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/306C08J7/02C09K3/00G03F7/42H01L21/304H01L21/60
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TOKUYAMA CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen