Remover agent, remover agent for semiconductors, solvent for semiconductors, treatment liquid for semiconductors, and method for producing semiconductor element
WO2023210574
Art A1
2. November 2023
Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023210574
- Aktenzeichen
- EP23796314
- Anmeldetag
- 24. April 2023
- Veröffentlichung
- 2. November 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/306C08J7/02C09K3/00G03F7/42H01L21/304H01L21/60
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKUYAMA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
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