Edge inspection of silicon wafers by image stacking
WO2023211549
Art A1
2. November 2023
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023211549
- Aktenzeichen
- EP23796976
- Anmeldetag
- 14. Februar 2023
- Veröffentlichung
- 2. November 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/95G01N21/88G01N21/956G06N20/00H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
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