Gradient oxidation and etch for pvd metal as bottom liner in bottom up gap fill

WO2023211583 Art A1 2. November 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023211583
Aktenzeichen: EP23796992
Anmeldetag: 20. März 2023
Veröffentlichung: 2. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/311C23C16/50C23C16/52H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von