Dry Developing Metal-Free Photoresists

WO2023211989 Art A1 2. November 2023

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023211989
Aktenzeichen: EP23797173
Anmeldetag: 25. April 2023
Veröffentlichung: 2. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/36G03F7/20H01L21/027H01L21/311H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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