Device and method for measuring contamination and lithographic apparatus provided with said device

WO2023213879 Art A1 9. November 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023213879
Aktenzeichen: EP23722414
Anmeldetag: 3. Mai 2023
Veröffentlichung: 9. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N27/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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