Mechatronic system control method, lithographic apparatus control method and lithographic apparatus

WO2023217460 Art A1 16. November 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023217460
Aktenzeichen: EP23715878
Anmeldetag: 3. April 2023
Veröffentlichung: 16. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G05B19/19

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

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