Optical system, lithography apparatus having an optical system, and method for producing an optical system

WO2023217738 Art A1 16. November 2023

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023217738
Aktenzeichen: EP23724299
Anmeldetag: 9. Mai 2023
Veröffentlichung: 16. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00H05K1/18H05K3/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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