Active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active-ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

WO2023218970 Art A1 16. November 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023218970
Aktenzeichen: EP23803449
Anmeldetag: 26. April 2023
Veröffentlichung: 16. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/18C07C39/27C07C39/38C07C39/40C07C47/565C07C49/825C07C69/88C07C205/22C07C255/53C07C317/22C07C381/12C08F12/04G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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