Water-based pretreatment for photoresist scum removal

WO2023219987 Art A1 16. November 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023219987
Aktenzeichen: EP23804091
Anmeldetag: 9. Mai 2023
Veröffentlichung: 16. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/40H01L21/67H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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