Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2023228847 Art A1 30. November 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023228847
Aktenzeichen: EP23811720
Anmeldetag: 18. Mai 2023
Veröffentlichung: 30. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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