Etching composition and method for manufacturing semiconductor device using the same

WO2023229078 Art A1 30. November 2023

Anmelder: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD., BASF SE 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023229078
Aktenzeichen: EP22943885
Anmeldetag: 27. Mai 2022
Veröffentlichung: 30. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C09K13/06C09K15/30H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
BASF SE
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Samsung Electronics

Südkoreanischer Elektronikkonzern und Teil der Samsung-Gruppe. Entwickelt und produziert Halbleiter, Speicherchips, Displays, Smartphones, Unterhaltungselektronik sowie Haushaltsgeräte für den globalen Markt.

71.857 Patente in unserer Datenbank

🇩🇪 BASF

Deutscher Chemiekonzern mit Sitz in Ludwigshafen, gegründet 1865. Entwickelt und produziert Chemikalien, Kunststoffe, Agrarprodukte und Materialien für zahlreiche Industriezweige.

22.742 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von