Highly Conformal Metal Etch in High Aspect Ratio Semiconductor Features

WO2023229628 Art A1 30. November 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023229628
Aktenzeichen: EP22944010
Anmeldetag: 6. Oktober 2022
Veröffentlichung: 30. November 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3213H10B43/27H10B43/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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