Temporary protection film for production of semiconductor device and production method for semiconductor device

WO2023233970 Art A1 7. Dezember 2023

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023233970
Aktenzeichen
EP23815730
Anmeldetag
12. Mai 2023
Veröffentlichung
7. Dezember 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/56C09J7/38C09J11/06C09J133/06C09J133/14H01L21/02H01L23/29H01L23/31
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
RESONAC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

2.042 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen