Method for thinning substrates for semiconductor devices

WO2023234998 Art A1 7. Dezember 2023

Anmelder: QORVO US, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023234998
Aktenzeichen
EP23718876
Anmeldetag
27. März 2023
Veröffentlichung
7. Dezember 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B7/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
QORVO US, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Qorvo US

Qorvo US ist ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in North Carolina, spezialisiert auf HF-Bauelemente für Mobilfunk und Netzwerktechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Schaltungstechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Nachrichtentechnik. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2011 bis 2025.

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