Method and system for reducing charging artifact in inspection image

WO2023237272 Art A1 14. Dezember 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023237272
Aktenzeichen: EP23723943
Anmeldetag: 8. Mai 2023
Veröffentlichung: 14. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G06T11/00G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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