Component for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography and projection exposure apparatus

WO2023237452 Art A1 14. Dezember 2023

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023237452
Aktenzeichen: EP23731169
Anmeldetag: 2. Juni 2023
Veröffentlichung: 14. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G02B7/00F16B2/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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