Plasma processing device and resonance frequency measuring method

WO2023238878 Art A1 14. Dezember 2023

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, THE UNIVERSITY OF SHIGA PREFECTURE 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023238878
Aktenzeichen: EP23819858
Anmeldetag: 7. Juni 2023
Veröffentlichung: 14. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/00H05H1/46H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
THE UNIVERSITY OF SHIGA PREFECTURE
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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