Composition for forming resist underlayer film to reduce environmental impact
WO2023238920
Art A1
14. Dezember 2023
Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023238920
- Aktenzeichen
- EP23819900
- Anmeldetag
- 9. Juni 2023
- Veröffentlichung
- 14. Dezember 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/11C09D7/20C09D7/63C09D201/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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