Systems and methods of defect detection by voltage contrast imaging
WO2023241870
Art A1
21. Dezember 2023
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023241870
- Aktenzeichen
- EP23725251
- Anmeldetag
- 15. Mai 2023
- Veröffentlichung
- 21. Dezember 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/00G01N21/956G01R31/307H01L21/66H01J37/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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