Beam monitor device, accelerator, radiation treatment device, and beam measurement method
WO2023243143
Art A1
21. Dezember 2023
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023243143
- Aktenzeichen
- EP23823448
- Anmeldetag
- 16. Februar 2023
- Veröffentlichung
- 21. Dezember 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G21K4/00A61N5/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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