Photosensitive resin composition, patterned resin film, method for producing patterned resin film, and semiconductor circuit substrate

WO2023243199 Art A1 21. Dezember 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023243199
Aktenzeichen: EP23823503
Anmeldetag: 10. April 2023
Veröffentlichung: 21. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/20

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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