Resist Underlayer Film Formation Composition

WO2023243476 Art A1 21. Dezember 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023243476
Aktenzeichen: EP23823769
Anmeldetag: 6. Juni 2023
Veröffentlichung: 21. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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