Actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic light-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

WO2023243521 Art A1 21. Dezember 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023243521
Aktenzeichen: EP23823813
Anmeldetag: 7. Juni 2023
Veröffentlichung: 21. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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