Field emission electron source, method of producing same, and electron beam device using same

WO2023248271 Art A1 28. Dezember 2023

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023248271
Aktenzeichen: EP22947835
Anmeldetag: 20. Juni 2022
Veröffentlichung: 28. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/073H01J9/02H01J1/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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