Radiation-sensitive resin composition and resist pattern formation method

WO2023248569 Art A1 28. Dezember 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023248569
Aktenzeichen: EP23826758
Anmeldetag: 30. März 2023
Veröffentlichung: 28. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F20/10G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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