Polymer and method for producing same, photosensitive resin composition, cured product, and monomer compound and method for producing same

WO2023248976 Art A1 28. Dezember 2023

Anmelder: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023248976
Aktenzeichen: EP23827159
Anmeldetag: 19. Juni 2023
Veröffentlichung: 28. Dezember 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/26C07C67/04C07C67/343C07C69/54C08F20/28C08F265/06C08F290/12C08L33/00G02B5/20G03F7/004G03F7/033G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Shokubai

Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.

1.571 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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