Kühlvorrichtung und Kühlverfahren für Sputtertargets
WO2023274558
Art A1
5. Januar 2023
Anmelder: SCHOTT AG, SCHOTT CORPORATION, SCHOTT JAPAN CORPORATION 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023274558
- Aktenzeichen
- EP21740473
- Anmeldetag
- 2. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 5. Januar 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/34C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SCHOTT AG
SCHOTT CORPORATION
SCHOTT JAPAN CORPORATION - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
SCHOTT
Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Mainz, spezialisiert auf Spezialglas und Glaskeramik für Pharma-, Optik-, Elektronik- und Haushaltsanwendungen.
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