Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, polymer, and compound

WO2023276538 Art A1 5. Januar 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023276538
Aktenzeichen: EP22832696
Anmeldetag: 1. Juni 2022
Veröffentlichung: 5. Januar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07D317/70C08F12/00C08F20/10G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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