Gas control apparatus for gas discharge stage

WO2023278097 Art A1 5. Januar 2023

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023278097
Aktenzeichen: EP22734449
Anmeldetag: 2. Juni 2022
Veröffentlichung: 5. Januar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/225G03F7/20H01S3/00H01S3/036H01S3/0971H01S3/13H01S3/134H01J17/22H01S3/23H01S3/10H01S3/104

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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