Pattern selection for source mask optimization and target optimization

WO2023285071 Art A1 19. Januar 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023285071
Aktenzeichen: EP22737588
Anmeldetag: 17. Juni 2022
Veröffentlichung: 19. Januar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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